材料科学，粉状的用作喷涂材料；泵和阀门用材的成分；用于生产抗磨耗薄膜和半导体薄膜。
材料科学; 机械加工; 石油化工; 航空航天; 半导体
- 1.采用以下工艺流程生产碳化铬
图1为碳化铬粉生产的工艺流程
其中，碳化温度为1450℃
1500℃，扩散时间为45min。原料的配比为：金属铬粉：石墨粉：粘结剂=86.5:13.5:3.5。
（1）混料 把称量好的原料，加入电动混料滚桶中，加料顺序是先加石墨粉，再加金属铬粉，后加粘贴剂。加料的体积以占混料滚桶容积的1/32/5为宜。混料时间为20~30min，每5min改变一次混料滚桶的转动方向。
（2）压块 将混好的原料进行压块，料块规格为φ90×60mm，每块重量约2.5kg，成型的料块要轻拿轻放，自然干燥48h，放入干燥箱内进行干燥，干燥温度为110±10℃，保温10h，升温到300℃，再保温10h。
（3）碳化 碳化设备为0.15MVA真空电阻炉，送电前要先抽真空，炉内压力小于30Pa时可以送电升温，开始时的输入功率视发热体烧损情况，确定为全部输入功率的50%，炉温升至300℃时输入功率增加到80%，炉温升至800℃使用全功率升温。这时升温速度一般为10℃/h左右，炉温升至1450℃时开始恒温，恒温时间为10h。
（4）破碎 碳化结束后，停电自然降温，继续抽真空，直到炉温降至300℃以下时停泵，破坏真空出炉。
2.采用碳热还原法制取：其中有两种反应机理
3.自蔓燃高温合成法
将Cr2O3，CrO3，Al粉和碳黑，以1:0.73:0.73:0.25的比例配料合批，将配置好的原料放入混料机混合6h，将混好的料放入石墨坩埚内，压实置于反应器内， 采用Ar作介质，预加压力5MPa，用钨丝圈上部平面点火源点火。当钨丝圈温度上升至1500℃时，物料被点燃，开始燃烧，燃烧波自行向下蔓延，直至反应结束。燃烧产物分成上下两层，下层是铸造状态碳化铬（Cr3C2）。
- 金属铬粉碳化法 将炭黑按13.5%～64%(质量)的比例(比理论结合碳量11.33%还多)与用电解铬粉碎而成325目的金属铬粉末，用球磨机进行干式混合之后作为原料。添加1％～3％硬脂酸作为成型用润滑剂。用1 T/cm
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以上压力加压成型。将该加压成型粉末放进石墨盘里或坩埚里，用塔曼炉或感应加热炉，在氢气流(氢气露点在-35℃左右)中，加热至1500～1700℃，并保持1h，使铬进行碳化反应，生成碳化铬，经冷却，制得碳化铬。其
3Cr+2C→Cr3C2
