10097-28-6 一氧化硅

运输信息：常温运输。危险描述：非危险化学品；WGK Germany:3；TSCA listed；存储类别:13 - 不可燃性固体；危险性类别:眼部刺激 类别2、经皮刺激 类别2、特异性靶器官毒性-一次接触，类别3

在真空中将其蒸发，涂在光学仪器用的金属反射镜面上作保护膜；用作光学玻璃和半导体材料的制备；作为精细陶瓷合成原料，如氮化硅、碳化硅精细陶瓷粉末原料；高温下有强还原性，能将水蒸气、二氧化碳、石灰石等物质还原。

光学玻璃; 半导体材料; 精细陶瓷

路线1：

• 步骤1：将SiO₂含量为99.5%的二氧化硅粉末和煤沥青粉末混合，C/SiO₂混合摩尔比为2.0，混合物经减压加热处理，生成SiO蒸气，通入氩气，将SiO蒸气凝结输送，制成0.1 μm以下的一氧化硅粉末。
• 条件：温度1600℃，压力1.013 kPa。
• 反应式：SiO₂+C→SiO+CO

路线2：

• 步骤：由二氧化硅与单质硅粉在高真空1400℃以上反应后升华而得。
• 反应式：SiO₂+Si=2SiO

路线3：

• 步骤：由碳和过量的二氧化硅加热到2000℃左右后升华而得。
• 反应式：SiO₂+C=SiO+CO

路线4：

• 步骤：在高温下用氢气还原二氧化硅，再经真空升华而制得。
• 反应式：H₂+SiO₂=SiO+H₂O

路线5：

• 步骤：在反应管里放好氧化铝烧结块，用镍制容器，一侧前端放微粉状硅粉和二氧化硅按1∶1摩尔比的混合物，加热4h。
• 条件：压力133.322×10⁻⁴Pa，温度1250～1300℃。
• 产物：在镍管的低温部分出现冷凝物（黑棕色玻璃状物质是一氧化硅）。