5-甲基-1,3,4-恶二唑-2-羧酸钾，常温常压下是灰白色固体，可溶于水，主要用作有机合成和医药化学中间体，可用于药物分子拉替拉韦和药物分子雷特格韦的合成。制备：向甲基四唑和三乙胺的甲苯混合液中缓慢滴加草酰氯乙酯，滴加过程中使温度始终低于5度，在0~5度下搅拌反应1h，过滤除掉三乙胺氯化氢盐，用冷甲苯清洗固体，合并滤液后加入热甲苯，70度搅拌1小时，冷却至20度后用盐水洗涤，旋干甲苯加入乙醇，冷却至10度，加入KOH，室温搅拌40分钟，结晶析出恶二唑K盐，过滤收集固体并真空干燥过夜得到产品。
医药; 有机合成
路线1：
- 步骤：在室温下搅拌的三乙基硅醇钾（411mg，3.20mmol）在乙醚中的浆液中，一次性加入5-甲基-1,3,4-恶二唑-2-羧酸乙酯（0.50g，3.20mmol）。观察到立即沉淀，颜色从白色变为灰白色。过滤除去沉淀，用乙醚洗涤并干燥，得到标题化合物。
- 条件：With potassium trimethylsilonate In diethyl ether at 20℃
- 收率：100%
- 参考文献：[1] Patent: US2009/35324, 2009, A1. Location in patent: Page/Page column 12 [2] Patent: WO2016/127859, 2016, A1. Location in patent: Paragraph 00194 [3] Patent: CN106349233, 2017, A. Location in patent: Paragraph 0243; 0274; 0275; 0276 [4] Patent: WO2006/60711, 2006, A2. Location in patent: Page/Page column 30-31 [5] Patent: WO2006/60731, 2006, A2. Location in patent: Page/Page column 35-36 [6] European Journal of Medicinal Chemistry, 2012, vol. 50, p. 361 - 369
路线2：
- 步骤：在0℃下将草酰氯乙酯（3.78kg）缓慢加入到5-甲基四唑（2.50kg），三乙胺（2.86kg）的甲苯（32L）混合物中，加入温度保持在5℃以下。将所得浆液在0-5℃下搅拌1小时，然后在1小时内加热至60-65℃（N₂气体放出）。将浆液在60-65℃下老化1小时，然后冷却至20-25℃。滤除三乙胺/HCl盐。用27L甲苯洗涤固体。将合并的滤液用5L 10％盐水洗涤，然后将溶剂转换为乙醇（减少至8L，然后加入17L EtOH，然后浓缩至8L，然后加入33升EtOH以调节最终体积为41 L）。将乙醇溶液冷却至10-20℃并用KOH水溶液洗涤。在30分钟内加入（8.0L），然后将得到的稠浆液在室温下搅拌40分钟，同时结晶出恶二唑K盐。滤出固体，用11L EtOH洗涤，最后用15L MTBE洗涤。将固体在20℃，氮气流下真空干燥过夜。
- 条件：Stage #1: With triethylamine In toluene at 0 - 65℃; for 3 h; Stage #2: With potassium hydroxide; water In ethanol at 10 - 20℃; for 1.17 h
- 收率：90.8%
- 参考文献：[1] Patent: WO2007/87188, 2007, A2. Location in patent: Page/Page column 36-37 [2] Patent: US2006/122205, 2006, A1. Location in patent: Page/Page column 24-25
路线3：
- 步骤：在0℃下，将5-甲基四唑（6.25g，74mmol）和三乙胺（7.5g，74mmol）溶解在甲苯（80mL）中，将乙基乙酰氯（10.0g，74mmol）滴加到反应溶液中。滴加反应，继续反应30分钟。反应生成固体滤器，用冷甲苯洗涤数次，合并甲苯溶液后加入热甲苯（50℃，15L），70℃搅拌1小时，冷却至室温。反应溶液用饱和盐水洗涤，干燥并浓缩。将粗产物溶于乙醇（100mL）中，冷却至10℃以下，滴加氢氧化钾（4.17g，74mmol）的水（10mL）溶液。在该温度下继续搅拌反应30分钟。收集所得固体。
- 条件：With potassium hydroxide In ethanol; water at 10℃; for 0.50 h
- 收率：8.0 g
- 参考文献：[1] Organic Process Research and Development, 2011, vol. 15, # 1, p. 73 - 83 [2] Patent: CN106349180, 2017, A. Location in patent: Paragraph 0173; 0174; 0175; 0176 [3] Patent: CN108610338, 2018, A. Location in patent: Paragraph 0042; 0043; 0046
