硅化铬用作陶瓷材料、高电阻薄膜材料。常温下在空气中稳定，100℃时表面被氧化，400℃时与氯激烈反应生成三氯化铬及四氯化硅。不溶于水、硫酸和硝酸，溶于盐酸和氢氟酸。
陶瓷材料; 高电阻薄膜材料
路线1：混合焙烧法
- 步骤1：硅粉与铬粉混合后，于900～1100℃的氢气中焙烧，冷却后即可；或铬粉和硅粉的混合物与二氧化硅粉和硅粉的混合物混合均匀，于氢气流中焙烧，SiO₂及Si粉形成的挥发性SiO同原料中的Na、K逸出，得到CrSi₂。
- 步骤2：48.1份粒度为1100μm的铬粉与51.9份粒度为50μm的硅粉混合，另外将3份粒度为10μm的SiO₂粉与1.5份硅粉混合，两种混合物再混匀，1100℃氢气流中焙烧1h，再在1430℃烧10min，SiO₂及Si粉形成的挥发性SiO同原料中的Na、K一起逸出，得到CrSi₂烧结体（粉细，含Na仅0.5×10⁻⁶，K 0.1×10⁻⁶）。
路线2：共熔/烧结法
- 条件：铬与硅粉在真空中或在氢气保护下共熔或烧结，可得到Cr₃Si（立方晶体，熔点约1710℃）、Cr₅Si₃（四方晶体，熔点约1600℃）、CrSi（立方晶体，熔点约1600℃）、CrSi₂及Cr₃Si₂。
