硅化铬用作陶瓷材料、高电阻薄膜材料。常温下在空气中稳定,100℃时表面被氧化,400℃时与氯激烈反应生成三氯化铬及四氯化硅。不溶于水、硫酸和硝酸,溶于盐酸和氢氟酸。
陶瓷材料; 高电阻薄膜材料
路线1:混合焙烧法
- 步骤1:硅粉与铬粉混合后,于900~1100℃的氢气中焙烧,冷却后即可;或铬粉和硅粉的混合物与二氧化硅粉和硅粉的混合物混合均匀,于氢气流中焙烧,SiO₂及Si粉形成的挥发性SiO同原料中的Na、K逸出,得到CrSi₂。
- 步骤2:48.1份粒度为1100μm的铬粉与51.9份粒度为50μm的硅粉混合,另外将3份粒度为10μm的SiO₂粉与1.5份硅粉混合,两种混合物再混匀,1100℃氢气流中焙烧1h,再在1430℃烧10min,SiO₂及Si粉形成的挥发性SiO同原料中的Na、K一起逸出,得到CrSi₂烧结体(粉细,含Na仅0.5×10⁻⁶,K 0.1×10⁻⁶)。
路线2:共熔/烧结法
- 条件:铬与硅粉在真空中或在氢气保护下共熔或烧结,可得到Cr₃Si(立方晶体,熔点约1710℃)、Cr₅Si₃(四方晶体,熔点约1600℃)、CrSi(立方晶体,熔点约1600℃)、CrSi₂及Cr₃Si₂。