25817-87-2 氮化铪

WGK Germany:3；TSCA listed

氮化铪是重要难熔化合物铪合金的重要组分，具有优异的力学、电学、光学、耐高温和耐腐蚀等特性，在机械制造和微电子等领域具有非常重要的应用；纳米氮化铪可广泛应用于半导体、光电和机械加工等众多领域；纳米氮化铪膜有望成为高效的光学窗口增透保护涂层材料，应用于航空航天关键光学器件。

机械制造; 微电子; 半导体; 光电; 航空航天光学器件

路线1：铪与氮直接反应

• 反应物: 铪（Hf）、氮气（N₂）
• 反应条件: 900℃
• 产物: 氮化铪（HfN）

路线2：铪卤化物与氨/氮氢混合气体反应

• 反应物: 铪卤化物（如HfCl₄等）、氨（NH₃）或氮氢混合气体（N₂/H₂）
• 反应条件: （未明确具体温度压力，需结合工艺优化）
• 产物: 氮化铪（HfN）