7783-54-2 三氟化氮

职业暴露等级A，TWA限值10 ppm（29 mg/m³），立即威胁生命和健康浓度1,000 ppm。危险品运输编号2451，危险类别2.2（非易燃气体），强氧化剂，TSCA listed，海关编码28129011。

三氟化氮是微电子工业优良等离子蚀刻气体，对硅和氮化硅蚀刻速率高、选择性好且无污染；用于IC、LCD、太阳能电池制造；作为高能化学激光器氟源；理化性质：无色无臭液化气体，稳定，不溶于水和碱，350℃分解，毒性大，急性毒性大鼠吸入LC50 176ppm(lh)，美国作业环境最高容许浓度10ppm(30mg/m³)；包装有20KG/44L钢瓶和8~14吨ISO管束槽；储运需库房通风低温干燥，与氢气、还原剂、油脂分开存放，灭火剂用雾状水、泡沫。

IC（半导体工业气体清洗剂、CVD箱清洗剂）；LCD（蚀刻剂）；太阳能电池（蚀刻和清洗气体）；高能化学激光器（氟源）

路线1：氨直接氟化工艺

• 反应条件：在熔融氟铵酸存在下，氨与氟气直接反应；
• 后处理：反应产物依次经除雾器、淋洗器、分子筛吸附器、真空蒸馏除杂，最后低温法收集得到NF3。

路线2：合成法

• 反应条件：氟化氢铵在镍制反应器中加热，氟气、氮气和氨通过分布器进入反应器直接氟化反应。

路线3：电解法

• 反应条件：一定温度下电解熔融的氟化氢铵，阳极产生三氟化氮，阴极产生氢气。