7803-62-5 硅烷

职业暴露等级B，TWA暴露限值5 ppm（7 mg/m³）。危险品运输编号UN 2203，危险类别2.1（易燃气体），WGK Germany 1，RTECS号VV1400000，TSCA listed，毒害物质数据7803-62-5。

电子工业用作氮化硅、外延材料等的掺杂源，半导体超纯硅原料，用于单晶硅、多晶硅外延片及二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃等化学气相沉积工艺；广泛用于太阳能电池、硅复印机鼓、光电传感器、光导纤维及特种玻璃等生产；理化性质：无色气体，比空气重，有特殊气味；急性毒性：吸入-大鼠LC50: 9600 PPM/4小时，吸入-小鼠LCL0: 9600 PPM/4小时；爆炸物危险特性：与空气混合易爆；可燃性危险特性：易燃，遇热分解有毒硅和易燃氢气；储运特性：库房通风低温干燥，与氧化剂、卤素分开存放；灭火剂：雾状水、泡沫、二氧化碳；职业标准：TLV-TWA 7 毫克/立方米

电子工业（氮化硅、外延材料等掺杂源，半导体超纯硅原料，单晶硅/多晶硅外延片等化学气相沉积工艺硅源）；能源工业（太阳能电池）；玻璃工业（涂膜反射玻璃、特种玻璃）；化学工业（液晶TFT、光电传感器、光导纤维等）；高科技领域（集成电路制造）

路线1：四氯化硅还原法

• 原料：LiAlH₄（1.14g溶于70mL乙醚）、SiCl₄（2.30mL溶于50mL乙醚）
• 装置：反应瓶、加料漏斗、指型冷却管（-78.5℃）、U形管接收器（-95℃用甲苯冻膏，其余-196℃用液氮）、真空系统
• 步骤：1. 仪器抽空后乙醚回流，搅拌下15min内加入SiCl₄+乙醚溶液；2. 加完后继续搅拌15-20min，期间切断反应器与真空系统；3. 反应完全后通入空气拆开真空系统
• 纯化：1. 集中液氮接收器物料，放掉-95℃接收器乙醚；2. 通过-130℃接收器5次（戊烷冷却）除去痕量乙醚，收集于-196℃接收器；3. 用-160℃接收器代替-130℃可除HCl，残余HCl经水或湿1,2-二甲氧基乙烷处理后通过-130℃接收器除去
• 收率：SiCl₄的80%