12027-83-7 锆硅酸钠

TSCA listed（未提供明确危险性/防护要点）

锆硅酸钠(Na2ZrSi3O9)可用于玻璃窑炉的熔化部、澄清部和窑壁等部位的捣打料，还可用于制革领域的鞣革剂以及作为光学玻璃的化工原料。

玻璃窑炉; 制革; 光学玻璃

• 原料: 纯度≥99.5％的二氧化硅，纯度≥99.99％的二氧化锆，纯度≥99.5％的硅酸钠，摩尔比为二氧化硅：二氧化锆：硅酸钠＝2:1:1；
• 球磨: 球磨罐材料为二氧化锆，加入二氧化锆磨球和去离子水，原料与水体积比1:1-1:2，转速50-80rpm，时间24-30h；
• 分离: 离心机固液分离；
• 煅烧: 高温炉1400-1500℃煅烧5-8h，得产品。